法人番号: 2010001008650
所在地: 東京都千代田区丸の内1丁目5番1号
更新: '18/07/02
| # | 変更年月日 | 変更内容 |
|---|---|---|
| 1 | '15/10/05 | 新規登録 |
| 2 | '15/10/05 | 新規登録 |
| 3 | '15/10/05 | 新規登録 |
| 4 | '15/10/05 | 新規登録 |
| 5 | '18/07/02 | 【名称変更】旧: 旭硝子株式会社 → 新: ＡＧＣ株式会社 |
| 6 | '18/07/02 | 【名称変更】旧: ＡＧＣ株式会社 → 新: ＡＧＣ株式会社 |
| 7 | '18/07/02 | 【名称変更】旧: ＡＧＣ株式会社 → 新: ＡＧＣ株式会社 |
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号 / 名称 | ＡＧＣ株式会社 |
| 法人番号 | 2010001008650 |
| 郵便番号 | 〒1000005 |
| 所在地 | 東京都千代田区丸の内1丁目5番1号 |
| 最終変更日 | 2018-07-02 |
| 法人番号指定日 | 2015-10-05 |
| # | 認定日 | 補助金名等 | 金額 | 省庁名 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | '13/10/16 | 平成２５年度先端省エネルギー等部素材開発事業費補助金 | ¥55,050,000 | 経済産業省 |
| # | 年月日 | 表彰名 | 部門等 | 省庁名 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | ー | ポジティブアクション | 厚生労働省 | |
| 2 | ー | 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 | ２００８年・２０１１年・２０１５年 | 厚生労働省 |
| 3 | ー | 両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表 | 厚生労働省 | |
| 4 | '16/04/18 | 知財功労賞（知的財産権制度活用優良企業等表彰） | 特許活用 (経済産業大臣表彰) | 経済産業省 |
| # | 認定日/出願日 | 届出認定等 | 対象 | 省庁名 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | ー | ＰＲＴＲ | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 2 | ー | ＰＲＴＲ | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 3 | ー | ＰＲＴＲ | 自然科学研究所 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 4 | ー | ＰＲＴＲ | 窯業・土石製品製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 5 | ー | ＰＲＴＲ | 窯業・土石製品製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 6 | ー | ＰＲＴＲ | 窯業・土石製品製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 7 | ー | ＰＲＴＲ | 電気機械器具製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 8 | ー | ＰＲＴＲ | 窯業・土石製品製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 9 | ー | ＰＲＴＲ | 窯業・土石製品製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 10 | '01/04/01 | 経済産業省 | ||
| 11 | '14/01/08 | フロン排出抑制法に基づくフロン類破壊業者許可 | 経済産業省 | |
| 12 | '16/01/14 | 特許 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 (Ｇ０２Ｂ ５／２２) | 特許庁 |
| 13 | '16/01/14 | 特許 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 (Ｈ０４Ｎ ５／２２５ Ｄ) | 特許庁 |
| 14 | '16/01/14 | 特許 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 (Ｈ０１Ｌ ２７／１４) | 特許庁 |
| 15 | '16/01/26 | 商標 | プリュム (２１) | 特許庁 |
| 16 | '16/01/26 | 商標 | プリュム (１９) | 特許庁 |
| 17 | '16/01/26 | 商標 | Ｐｌｕｍｅ (２１) | 特許庁 |
| 18 | '16/01/26 | 商標 | Ｐｌｕｍｅ (１９) | 特許庁 |
| 19 | '16/01/27 | 商標 | ｉｎｆｏｖｅｒｒｅ (２１) | 特許庁 |
| 20 | '16/01/27 | 商標 | ｉｎｆｏｖｅｒｒｅ (２０) | 特許庁 |
| 21 | '16/01/27 | 商標 | ｉｎｆｏｖｅｒｒｅ (１９) | 特許庁 |
| 22 | '16/01/27 | 商標 | ｉｎｆｏｖｅｒｒｅ (９) | 特許庁 |
| 23 | '16/02/01 | 商標 | §Ｍａｋｅ ｕｐ∞ＳＨＯＰ (３７) | 特許庁 |
| 24 | '16/02/02 | 商標 | ＬＡＭＩ ＳＨＩＮＥ (２１) | 特許庁 |
| 25 | '16/02/02 | 商標 | ＬＡＭＩ ＳＨＩＮＥ (１９) | 特許庁 |
| 26 | '16/02/02 | 商標 | ラミシャイン (２１) | 特許庁 |
| 27 | '16/02/02 | 商標 | ラミシャイン (１９) | 特許庁 |
| 28 | '16/02/16 | 特許 | 光学フィルタおよび撮像装置 (Ｃ０９Ｋ ３／００ １０５) | 特許庁 |
| 29 | '16/02/16 | 特許 | 光学フィルタおよび撮像装置 (Ｇ０２Ｂ ５／２２) | 特許庁 |
| 30 | '16/02/19 | 商標 | まどまど (１９) | 特許庁 |
| 31 | '16/02/19 | 商標 | リグラス (３７) | 特許庁 |
| 32 | '16/02/29 | 特許 | 貫通孔を有するガラス基板の製造方法、貫通電極を備えるガラス基板の製造方法、およびインターポーザの製造方法 (Ｈ０１Ｌ ２１／７６８) | 特許庁 |
| 33 | '16/02/29 | 特許 | 貫通孔を有するガラス基板の製造方法、貫通電極を備えるガラス基板の製造方法、およびインターポーザの製造方法 (Ｈ０５Ｋ ３／４０) | 特許庁 |
| 34 | '16/02/29 | 特許 | 貫通孔を有するガラス基板の製造方法、貫通電極を備えるガラス基板の製造方法、およびインターポーザの製造方法 (Ｃ０３Ｃ １５／００ Ｚ) | 特許庁 |
| 35 | '16/02/29 | 特許 | 貫通孔を有するガラス基板の製造方法、貫通電極を備えるガラス基板の製造方法、およびインターポーザの製造方法 (Ｂ２３Ｋ ２６／３８２) | 特許庁 |
| 36 | '16/03/07 | 商標 | Ｇｌａｓｃｅｎｅ (１６) | 特許庁 |
| 37 | '16/04/11 | 特許 | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体 (Ｇ１１Ｂ ５／７３) | 特許庁 |
| 38 | '16/04/14 | 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク (Ｇ１１Ｂ ５／７３) | 特許庁 |
| 39 | '16/04/18 | 特許 | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体 (Ｇ１１Ｂ ５／０２ Ｓ) | 特許庁 |
| 40 | '16/04/18 | 特許 | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体 (Ｃ０３Ｃ ３／０９１) | 特許庁 |
| 41 | '16/04/20 | 商標 | Ｓｕｒｆｉｃ (１２) | 特許庁 |
| 42 | '16/04/20 | 商標 | Ｓｕｒｆｉｃ (９) | 特許庁 |
| 43 | '16/04/26 | 特許 | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体 (Ｇ１１Ｂ ５／７３) | 特許庁 |
| 44 | '16/04/28 | 特許 | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体用ガラス基板製造装置 (Ｇ１１Ｂ ５／８４ Ａ) | 特許庁 |
| 45 | '16/06/08 | 特許 | マスクブランク (Ｇ０３Ｆ １／５４) | 特許庁 |
| 46 | '16/06/08 | 特許 | マスクブランク (Ｂ２４Ｂ ３７／００ Ｌ) | 特許庁 |
| 47 | '16/06/08 | 特許 | マスクブランク (Ｃ０３Ｃ １９／００) | 特許庁 |
| 48 | '16/07/05 | 特許 | 磁気記録媒体用のガラス基板、および磁気記録媒体の製造方法 (Ｃ０３Ｃ ２１／００) | 特許庁 |
| 49 | '16/07/05 | 特許 | 磁気記録媒体用のガラス基板、および磁気記録媒体の製造方法 (Ｇ１１Ｂ ５／８４ Ｃ) | 特許庁 |