JX金属株式会社の企業情報(東京都港区)

同名企業有り

JX金属株式会社は同名法人が2社あります

名称変更履歴有り

この企業は過去に名称変更されています

最新の会社情報

JX金属株式会社

法人番号: 2010001133878

所在地: 東京都港区虎ノ門2丁目10番4号

更新: '20/07/06

法人情報変更履歴

企業情報変更履歴(新設, 名称変更, 所在地変更等)

#変更年月日変更内容
1'15/10/05新規登録
2'15/10/05新規登録
3'16/01/04【名称変更】旧: JX日鉱日石金属株式会社 → 新: JX金属株式会社
4'16/01/04【所在地変更】旧: 東京都千代田区大手町2丁目6番3号 → 新: 東京都千代田区大手町1丁目1番2号
5'16/01/04【名称変更】旧: JX金属株式会社 → 新: JX金属株式会社
6'16/01/04【所在地変更】旧: 東京都千代田区大手町2丁目6番3号 → 新: 東京都千代田区大手町1丁目1番2号
7'17/04/03【吸収合併を実施】東京都千代田区大手町一丁目1番2号JXプロキュアメント株式会社(4010001133934)を合併
8'17/04/03【吸収合併を実施】東京都千代田区大手町一丁目1番2号JXプロキュアメント株式会社(4010001133934)を合併
9'20/07/06【所在地変更】旧: 東京都千代田区大手町1丁目1番2号 → 新: 東京都港区虎ノ門2丁目10番4号

企業合併履歴

#年月日合併内容
1'17/04/03JXプロキュアメント株式会社を合併

会社詳細情報

項目内容
商号 / 名称JX金属株式会社
法人番号2010001133878
郵便番号〒1050001
所在地東京都港区虎ノ門2丁目10番4号
最終変更日2020-07-06
法人番号指定日2015-10-05

補助金獲得履歴

#認定日補助金名等金額省庁名
1'11/01/01自家発電設備導入促進事業費補助金¥446,557,666経済産業省

届出・認定履歴

#認定日/出願日届出認定等対象省庁名
1PRTR非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
2PRTR非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
3PRTR非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
4PRTR非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
5PRTR非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
6PRTR非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
7'16/01/21特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法。 (C25D  7/06)特許庁
8'16/01/21特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法。 (B32B 15/04      A)特許庁
9'16/01/21特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法。 (H05K  1/09      A)特許庁
10'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (H05K  1/09)特許庁
11'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (C25D  7/00      J)特許庁
12'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (B32B 15/08      J)特許庁
13'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (C23C 18/16      A)特許庁
14'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (H05K  3/20      A)特許庁
15'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (C25D  1/04   311)特許庁
16'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (B32B 15/08)特許庁
17'16/02/18特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (H05K  1/09      A)特許庁
18'16/02/18特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (B32B 15/04      A)特許庁
19'16/02/18特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (B32B 15/04)特許庁
20'16/02/25特許酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜 (C23C 14/34)特許庁
21'16/02/25特許酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜 (G02B  1/113)特許庁
22'16/02/25特許酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜 (C04B 35/00      J)特許庁
23'16/03/31特許IZO焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 (C04B 35/00)特許庁
24'16/03/31特許IZO焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 (C23C 14/34)特許庁
25'16/07/01商標hyperGrain (17)特許庁
26'16/07/01商標hyperGrain (6)特許庁
27'16/09/20商標§Cu (40)特許庁
28'16/09/20商標§Cu (6)特許庁
29'16/09/20商標カッパーくん (40)特許庁
30'16/09/20商標カッパーくん (6)特許庁

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