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ＪＸ金属株式会社の企業情報(東京都港区)

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最新の会社情報

ＪＸ金属株式会社

法人番号: 2010001133878

所在地: 東京都港区虎ノ門2丁目10番4号

更新: '20/07/06

法人情報変更履歴

企業情報変更履歴(新設, 名称変更, 所在地変更等)

#変更年月日変更内容
1'15/10/05新規登録
2'15/10/05新規登録
3'16/01/04【名称変更】旧: ＪＸ日鉱日石金属株式会社 → 新: ＪＸ金属株式会社
4'16/01/04【所在地変更】旧: 東京都千代田区大手町2丁目6番3号 → 新: 東京都千代田区大手町1丁目1番2号
5'16/01/04【名称変更】旧: ＪＸ金属株式会社 → 新: ＪＸ金属株式会社
6'16/01/04【所在地変更】旧: 東京都千代田区大手町2丁目6番3号 → 新: 東京都千代田区大手町1丁目1番2号
7'17/04/03【吸収合併を実施】東京都千代田区大手町一丁目1番2号JXプロキュアメント株式会社(4010001133934)を合併
8'17/04/03【吸収合併を実施】東京都千代田区大手町一丁目1番2号JXプロキュアメント株式会社(4010001133934)を合併
9'20/07/06【所在地変更】旧: 東京都千代田区大手町1丁目1番2号 → 新: 東京都港区虎ノ門2丁目10番4号

企業合併履歴

#年月日合併内容
1'17/04/03ＪＸプロキュアメント株式会社を合併

会社詳細情報

項目内容
商号 / 名称ＪＸ金属株式会社
法人番号2010001133878
郵便番号〒1050001
所在地東京都港区虎ノ門2丁目10番4号
最終変更日2020-07-06
法人番号指定日2015-10-05

補助金獲得履歴

#認定日補助金名等金額省庁名
1'11/01/01自家発電設備導入促進事業費補助金¥446,557,666経済産業省

届出・認定履歴

#認定日/出願日届出認定等対象省庁名
1ーＰＲＴＲ非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
2ーＰＲＴＲ非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
3ーＰＲＴＲ非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
4ーＰＲＴＲ非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
5ーＰＲＴＲ非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
6ーＰＲＴＲ非鉄金属製造業 (経済産業大臣)経済産業省
7'16/01/21特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法。 (Ｃ２５Ｄ　　７／０６)特許庁
8'16/01/21特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法。 (Ｂ３２Ｂ　１５／０４　　　　　　Ａ)特許庁
9'16/01/21特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法。 (Ｈ０５Ｋ　　１／０９　　　　　　Ａ)特許庁
10'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (Ｈ０５Ｋ　　１／０９)特許庁
11'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (Ｃ２５Ｄ　　７／００　　　　　　Ｊ)特許庁
12'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (Ｂ３２Ｂ　１５／０８　　　　　　Ｊ)特許庁
13'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (Ｃ２３Ｃ　１８／１６　　　　　　Ａ)特許庁
14'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (Ｈ０５Ｋ　　３／２０　　　　　　Ａ)特許庁
15'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (Ｃ２５Ｄ　　１／０４　　　３１１)特許庁
16'16/02/16特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (Ｂ３２Ｂ　１５／０８)特許庁
17'16/02/18特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (Ｈ０５Ｋ　　１／０９　　　　　　Ａ)特許庁
18'16/02/18特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (Ｂ３２Ｂ　１５／０４　　　　　　Ａ)特許庁
19'16/02/18特許キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 (Ｂ３２Ｂ　１５／０４)特許庁
20'16/02/25特許酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜 (Ｃ２３Ｃ　１４／３４)特許庁
21'16/02/25特許酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜 (Ｇ０２Ｂ　　１／１１３)特許庁
22'16/02/25特許酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜 (Ｃ０４Ｂ　３５／００　　　　　　Ｊ)特許庁
23'16/03/31特許ＩＺＯ焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 (Ｃ０４Ｂ　３５／００)特許庁
24'16/03/31特許ＩＺＯ焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 (Ｃ２３Ｃ　１４／３４)特許庁
25'16/07/01商標ｈｙｐｅｒＧｒａｉｎ (１７)特許庁
26'16/07/01商標ｈｙｐｅｒＧｒａｉｎ (６)特許庁
27'16/09/20商標§Ｃｕ (４０)特許庁
28'16/09/20商標§Ｃｕ (６)特許庁
29'16/09/20商標カッパーくん (４０)特許庁
30'16/09/20商標カッパーくん (６)特許庁

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