法人番号: 3020001069823
所在地: 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
更新: '19/04/01
# | 変更年月日 | 変更内容 |
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1 | '15/10/05 | 新規登録 |
2 | '15/10/05 | 新規登録 |
3 | '19/04/01 | 【吸収合併を実施】神奈川県高座郡寒川町一之宮七丁目8番16号ティーオーケーテクノサービス株式会社(9021001006406)を合併 |
# | 年月日 | 合併内容 |
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1 | '19/04/03 | ティーオーケーテクノサービス株式会社を合併 |
項目 | 内容 |
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商号 / 名称 | 東京応化工業株式会社 |
法人番号 | 3020001069823 |
郵便番号 | 〒2110012 |
所在地 | 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 |
最終変更日 | 2019-04-01 |
法人番号指定日 | 2015-10-05 |
# | 年月日 | 表彰名 | 部門等 | 省庁名 |
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1 | ー | 両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表 | 厚生労働省 | |
2 | '14/03/17 | GNT企業100選 | 半導体用フォトレジスト(基盤を焼き付ける薬品) | 経済産業省 |
# | 認定日/出願日 | 届出認定等 | 対象 | 省庁名 |
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1 | ー | PRTR | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
2 | ー | PRTR | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
3 | ー | PRTR | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
4 | ー | PRTR | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
5 | '02/02/06 | 経済産業省 | ||
6 | '16/07/01 | 商標 | EM Remover (1) | 特許庁 |
7 | '16/08/05 | 商標 | TAPM (17) | 特許庁 |
8 | '16/08/25 | 特許 | 感光性組成物、パターン形成方法、硬化物、及び表示装置 (G03F 7/031) | 特許庁 |
9 | '16/08/25 | 特許 | 感光性組成物、パターン形成方法、硬化物、及び表示装置 (G02F 1/1333) | 特許庁 |
10 | '16/08/25 | 特許 | 感光性組成物、パターン形成方法、硬化物、及び表示装置 (C08F 2/50) | 特許庁 |
11 | '16/08/30 | 商標 | OSRA (1) | 特許庁 |