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ＪＳＲ株式会社の企業情報(東京都港区)

最新の会社情報

ＪＳＲ株式会社

法人番号: 6010401082746

所在地: 東京都港区東新橋1丁目9番2号

更新: '21/04/12

法人情報変更履歴

企業情報変更履歴(新設, 名称変更, 所在地変更等)

#変更年月日変更内容
1'15/10/05新規登録
2'15/10/05新規登録
3'21/04/12【吸収合併を実施】令和3年4月1日三重県四日市市川尻町100番地JSRエンジニアリング株式会社(1190001015829)を合併

企業合併履歴

#年月日合併内容
1'21/04/22ＪＳＲエンジニアリング株式会社を合併

会社詳細情報

項目内容
商号 / 名称ＪＳＲ株式会社
法人番号6010401082746
郵便番号〒1050021
所在地東京都港区東新橋1丁目9番2号
最終変更日2021-04-12
法人番号指定日2015-10-05

表彰獲得履歴

#年月日表彰名部門等省庁名
1ーポジティブアクション厚生労働省
2ー両立支援のひろば　一般事業主行動計画公表厚生労働省

届出・認定履歴

#認定日/出願日届出認定等対象省庁名
1ーＰＲＴＲ化学工業 (経済産業大臣)経済産業省
2ーＰＲＴＲ化学工業 (経済産業大臣)経済産業省
3ーＰＲＴＲ化学工業 (経済産業大臣)経済産業省
4'01/09/20経済産業省
5'16/01/14商標ＬＩＴＨＯＴＩＧＨＴ (１)特許庁
6'16/03/04商標ＥＵＶ　ＲＭＱＣ (４２)特許庁
7'16/03/04商標ＥＵＶ　ＲＭＱＣ (４０)特許庁
8'16/03/04商標ＥＵＶ　ＲＭＱＣ (１)特許庁
9'16/03/04商標§ＥＵＶ＼ＲＭＱＣ＼ＥＵＶ　ＲＥＳＩＳＴ　ＭＡＮＵＦＡＣＴＵＲＩＮＧ＼＆　ＱＵＡＬＩＦＩＣＡＴＩＯＮ　ＣＥＮＴＥＲ (４２)特許庁
10'16/03/04商標§ＥＵＶ＼ＲＭＱＣ＼ＥＵＶ　ＲＥＳＩＳＴ　ＭＡＮＵＦＡＣＴＵＲＩＮＧ＼＆　ＱＵＡＬＩＦＩＣＡＴＩＯＮ　ＣＥＮＴＥＲ (４０)特許庁
11'16/03/04商標§ＥＵＶ＼ＲＭＱＣ＼ＥＵＶ　ＲＥＳＩＳＴ　ＭＡＮＵＦＡＣＴＵＲＩＮＧ＼＆　ＱＵＡＬＩＦＩＣＡＴＩＯＮ　ＣＥＮＴＥＲ (１)特許庁
12'16/03/11特許ラインパターン、光制御部材および光学結像部材の製造方法 (Ｇ０２Ｂ　２７／２２)特許庁
13'16/03/11特許ラインパターン、光制御部材および光学結像部材の製造方法 (Ｇ０３Ｂ　３５／１８)特許庁
14'16/03/23商標ＪＥＵＸＳ (１)特許庁
15'16/05/30特許リチウムイオン二次電池負極用スラリー、リチウムイオン二次電池負極及びリチウムイオン二次電池 (Ｈ０１Ｍ　　４／１３９５)特許庁
16'16/05/30特許リチウムイオン二次電池負極用スラリー、リチウムイオン二次電池負極及びリチウムイオン二次電池 (Ｃ０８Ｋ　　５／０５)特許庁
17'16/05/30特許リチウムイオン二次電池負極用バインダー組成物、リチウムイオン二次電池負極用スラリー、リチウムイオン二次電池負極及びリチウムイオン二次電池 (Ｃ０８Ｌ　７９／０８)特許庁
18'16/05/30特許リチウムイオン二次電池負極用バインダー組成物、リチウムイオン二次電池負極用スラリー、リチウムイオン二次電池負極及びリチウムイオン二次電池 (Ｈ０１Ｍ　　４／１３)特許庁
19'16/05/30特許蓄電デバイス電極用バインダー組成物、蓄電デバイス電極用スラリー、蓄電デバイス電極及び蓄電デバイス (Ｈ０１Ｍ　　４／１３９)特許庁
20'16/05/30特許蓄電デバイス電極用バインダー組成物、蓄電デバイス電極用スラリー、蓄電デバイス電極及び蓄電デバイス (Ｃ０８Ｌ　７９／０８　　　　　　Ａ)特許庁
21'16/05/30特許蓄電デバイス電極用バインダー組成物、蓄電デバイス電極用スラリー、蓄電デバイス電極及び蓄電デバイス (Ｃ０８Ｇ　７３／１０)特許庁
22'16/05/30特許蓄電デバイス電極用バインダー組成物、蓄電デバイス電極用スラリー、蓄電デバイス電極及び蓄電デバイス (Ｈ０１Ｍ　　４／１３４)特許庁
23'16/06/06特許蓄電デバイス電極用バインダー組成物の保管方法 (Ｈ０１Ｍ　　４／６２　　　　　　Ｚ)特許庁
24'16/08/01商標ＦＩＬＬＵＸ (２)特許庁
25'16/08/01商標ＦＩＬＬＵＸ (１)特許庁

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