法人番号: 7011101019599
所在地: 東京都新宿区西新宿6丁目10番1号
更新: '20/04/01
| # | 変更年月日 | 変更内容 |
|---|---|---|
| 1 | '15/10/05 | 新規登録 |
| 2 | '15/10/05 | 新規登録 |
| 3 | '16/04/01 | 【所在地変更】旧: 東京都新宿区中落合2丁目7番5号 → 新: 東京都新宿区西新宿6丁目10番1号 |
| 4 | '16/04/01 | 【所在地変更】旧: 東京都新宿区西新宿6丁目10番1号 → 新: 東京都新宿区西新宿6丁目10番1号 |
| 5 | '20/01/06 | 【吸収合併を実施】令和2年1月1日埼玉県戸田市氷川町三丁目5番24号HOYA CANDEO OPTRONICS株式会社(1030001021636)を合併 |
| 6 | '20/04/01 | 【吸収合併を実施】令和2年4月1日東京都中野区中野四丁目10番2号Eye Care Retailing株式会社(5011201017975)を合併 |
| # | 年月日 | 合併内容 |
|---|---|---|
| 1 | '20/01/10 | ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ株式会社を合併 |
| 2 | '20/04/10 | Ｅｙｅ Ｃａｒｅ Ｒｅｔａｉｌｉｎｇ株式会社を合併 |
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号 / 名称 | ＨＯＹＡ株式会社 |
| 法人番号 | 7011101019599 |
| 郵便番号 | 〒1600023 |
| 所在地 | 東京都新宿区西新宿6丁目10番1号 |
| 最終変更日 | 2020-04-01 |
| 法人番号指定日 | 2015-10-05 |
| # | 認定日/出願日 | 届出認定等 | 対象 | 省庁名 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | ー | ＰＲＴＲ | 窯業・土石製品製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 2 | ー | ＰＲＴＲ | 電気機械器具製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 3 | ー | ＰＲＴＲ | 医療用機械器具・医療用品製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 4 | ー | ＰＲＴＲ | 精密機械器具製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 5 | ー | ＰＲＴＲ | 電気機械器具製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 6 | ー | ＰＲＴＲ | プラスチック製品製造業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 7 | '16/01/25 | 商標 | ＨＡＲＭＯＴＥＣＨ (９) | 特許庁 |
| 8 | '16/01/25 | 商標 | Ｓｏｌｖｅ (９) | 特許庁 |
| 9 | '16/01/25 | 商標 | Ｎｏｔｉｏ (９) | 特許庁 |
| 10 | '16/01/25 | 商標 | Ａｖａｎｃｅ (９) | 特許庁 |
| 11 | '16/01/25 | 商標 | Ｖｅｒｔｕ (９) | 特許庁 |
| 12 | '16/01/25 | 商標 | ＡＤＶＡＮＴＥＣＨ (９) | 特許庁 |
| 13 | '16/01/25 | 商標 | ＣＯＭＦＯＴＥＣＨ (９) | 特許庁 |
| 14 | '16/01/25 | 商標 | Ａｂｉｌｉｔａ (９) | 特許庁 |
| 15 | '16/01/25 | 商標 | ＲＡＫＵＬＵＸ (９) | 特許庁 |
| 16 | '16/01/25 | 商標 | Ａｌｔａｉｒ (９) | 特許庁 |
| 17 | '16/01/25 | 商標 | Ｔｒｉｂｕｔｅ (９) | 特許庁 |
| 18 | '16/01/25 | 商標 | Ｓａｇｅｓｓｅ (９) | 特許庁 |
| 19 | '16/01/25 | 商標 | ＰＡＬＭＡＳ (９) | 特許庁 |
| 20 | '16/01/26 | 商標 | ＦＲＡ (９) | 特許庁 |
| 21 | '16/01/26 | 商標 | ＦＲＳ (９) | 特許庁 |
| 22 | '16/01/26 | 商標 | ＦＲＦ (９) | 特許庁 |
| 23 | '16/02/23 | 特許 | 内視鏡用変倍光学系及び内視鏡 (Ｇ０２Ｂ ２３／２６ Ｃ) | 特許庁 |
| 24 | '16/02/23 | 特許 | 内視鏡用変倍光学系及び内視鏡 (Ａ６１Ｂ １／００) | 特許庁 |
| 25 | '16/03/24 | 意匠 | 内視鏡用漏水検査機 (Ｊ１５００) | 特許庁 |
| 26 | '16/03/24 | 意匠 | 内視鏡用検査機保持具 (Ｊ１５９) | 特許庁 |
| 27 | '16/03/25 | 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 (Ｇ０３Ｆ １／５８) | 特許庁 |
| 28 | '16/04/11 | 商標 | アイシェルジュ (３５) | 特許庁 |
| 29 | '16/05/09 | 商標 | アイシティ初回割 (３５) | 特許庁 |
| 30 | '16/05/09 | 商標 | アイシティ＼初回割 (３５) | 特許庁 |
| 31 | '16/06/06 | 商標 | ＰＥＮＴＡＸ Ｍｅｄｉｃａｌ Ｏｐｔｉｖｉｓｔａ (４４) | 特許庁 |
| 32 | '16/06/06 | 商標 | ＰＥＮＴＡＸ Ｍｅｄｉｃａｌ Ｏｐｔｉｖｉｓｔａ (３７) | 特許庁 |
| 33 | '16/06/06 | 商標 | ＰＥＮＴＡＸ Ｍｅｄｉｃａｌ Ｏｐｔｉｖｉｓｔａ (１０) | 特許庁 |
| 34 | '16/06/06 | 商標 | ＡＥＶＩＴＡＳ (４４) | 特許庁 |
| 35 | '16/06/06 | 商標 | ＡＥＶＩＴＡＳ (３７) | 特許庁 |
| 36 | '16/06/06 | 商標 | ＡＥＶＩＴＡＳ (１０) | 特許庁 |
| 37 | '16/06/23 | 商標 | §１０∞毎月１０日は＼メガネ点検の日 (３７) | 特許庁 |
| 38 | '16/06/23 | 商標 | §１０∞毎月１０日は＼メガネ点検の日 (３５) | 特許庁 |
| 39 | '16/09/30 | 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、ガラス基板中間体、及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 特許庁 |
| 40 | '16/10/12 | 商標 | レイガード４３５ (４０) | 特許庁 |
| 41 | '16/10/12 | 商標 | レイガード４３５ (９) | 特許庁 |
| 42 | '16/10/12 | 商標 | ＲａｙＧｕａｒｄ４３５ (４０) | 特許庁 |
| 43 | '16/10/12 | 商標 | ＲａｙＧｕａｒｄ４３５ (９) | 特許庁 |