| 1 | ー | ＰＲＴＲ | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 2 | ー | ＰＲＴＲ | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 3 | ー | ＰＲＴＲ | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 4 | ー | ＰＲＴＲ | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 5 | ー | ＰＲＴＲ | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 6 | ー | ＰＲＴＲ | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 7 | ー | ＰＲＴＲ | 自然科学研究所 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 8 | ー | ＰＲＴＲ | 化学工業 (経済産業大臣) | 経済産業省 |
| 9 | '01/04/01 | | | 経済産業省 |
| 10 | '16/01/27 | 特許 | 樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂複合シート、及びプリント配線板 (Ｈ０５Ｋ １／０３ ６１０Ｌ) | 特許庁 |
| 11 | '16/01/27 | 特許 | 樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂複合シート、及びプリント配線板 (Ｃ０８Ｌ１０１／０６) | 特許庁 |
| 12 | '16/01/29 | 特許 | プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート、及びプリント配線板 (Ｃ０８Ｊ ５／２４ ＣＦＣ) | 特許庁 |
| 13 | '16/01/29 | 特許 | プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート、及びプリント配線板 (Ｈ０５Ｋ １／０３ ６１０Ｒ) | 特許庁 |
| 14 | '16/02/12 | 商標 | ＡＬＴＥＳＴＥＲ (１) | 特許庁 |
| 15 | '16/02/19 | 特許 | プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、樹脂複合シート及び金属箔張積層板 (Ｂ３２Ｂ ５／２８ Ａ) | 特許庁 |
| 16 | '16/02/19 | 特許 | プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、樹脂複合シート及び金属箔張積層板 (Ｃ０８Ｊ ５／２４ ＣＦＣ) | 特許庁 |
| 17 | '16/02/19 | 特許 | プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、樹脂複合シート及び金属箔張積層板 (Ｈ０５Ｋ １／０３ ６１０Ｌ) | 特許庁 |
| 18 | '16/02/26 | 商標 | ＯＰＴＩＭＡＳ (１７) | 特許庁 |
| 19 | '16/02/26 | 商標 | ＯＰＴＩＭＡＳ (１) | 特許庁 |
| 20 | '16/02/26 | 商標 | オプティマス (１７) | 特許庁 |
| 21 | '16/02/26 | 商標 | オプティマス (１) | 特許庁 |
| 22 | '16/03/01 | 特許 | 光学材料用組成物およびその用途 (Ｃ０８Ｇ ７５／０８) | 特許庁 |
| 23 | '16/03/01 | 特許 | 光学材料用組成物およびその用途 (Ｇ０２Ｂ １／０４) | 特許庁 |
| 24 | '16/03/09 | 特許 | 化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法、及び、化合物又は樹脂の精製方法 (Ｃ０７Ｄ２０９／８６) | 特許庁 |
| 25 | '16/03/09 | 特許 | 化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法、及び、化合物又は樹脂の精製方法 (Ｃ０８Ｇ ８／２０ Ｚ) | 特許庁 |
| 26 | '16/03/09 | 特許 | 化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法、及び、化合物又は樹脂の精製方法 (Ｇ０３Ｆ ７／１１ ５０３) | 特許庁 |
| 27 | '16/03/10 | 特許 | ポリイミド樹脂 (Ｃ０８Ｇ ７３／１０) | 特許庁 |
| 28 | '16/03/10 | 特許 | ポリイミド樹脂 (Ｈ０５Ｋ １／０３ ６１０Ｎ) | 特許庁 |
| 29 | '16/03/11 | 商標 | アルテスタ (１) | 特許庁 |
| 30 | '16/03/25 | 特許 | ノルボルナン骨格を有する二官能性化合物、及びその製造方法 (Ｃ０７Ｃ ６９／７５７ ＣＳＰＺ) | 特許庁 |
| 31 | '16/04/07 | 特許 | リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法 (Ｇ０３Ｆ ７／２０) | 特許庁 |
| 32 | '16/04/07 | 特許 | リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法 (Ｃ０８Ｇ ８／２８) | 特許庁 |
| 33 | '16/04/07 | 特許 | リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法 (Ｈ０１Ｌ ２１／３０ ５６３) | 特許庁 |
| 34 | '16/04/13 | 特許 | ハニカム構造体及びサンドイッチ構造体ならびにそれらを製造するためのハニカム用基材 (Ｂ３２Ｂ ３／２８) | 特許庁 |
| 35 | '16/04/13 | 特許 | ハニカム構造体及びサンドイッチ構造体ならびにそれらを製造するためのハニカム用基材 (Ｃ０８Ｌ ７７／００) | 特許庁 |
| 36 | '16/04/26 | 商標 | Ｉｎｎｅｒ Ｍｉｒｒｏｒ (１７) | 特許庁 |
| 37 | '16/04/26 | 商標 | Ｉｎｎｅｒ Ｍｉｒｒｏｒ (９) | 特許庁 |
| 38 | '16/07/29 | 商標 | ＳＬＥ (１７) | 特許庁 |
| 39 | '16/07/29 | 商標 | ＳＬＥ (４) | 特許庁 |
| 40 | '16/08/10 | 特許 | 長繊維強化複合材料および成形品 (Ｃ０８Ｇ ６９／２６) | 特許庁 |
| 41 | '16/08/12 | 商標 | ＯＸＹＳＨＵＴ (２１) | 特許庁 |
| 42 | '16/08/12 | 商標 | ＯＸＹＳＨＵＴ (２０) | 特許庁 |
| 43 | '16/08/12 | 商標 | ＯＸＹＳＨＵＴ (１０) | 特許庁 |
| 44 | '16/09/13 | 商標 | ＲＥＮＹ (１７) | 特許庁 |
| 45 | '16/09/13 | 商標 | ＲＥＮＹ (１) | 特許庁 |
| 46 | '16/09/13 | 商標 | レニー (１７) | 特許庁 |
| 47 | '16/09/13 | 商標 | レニー (１) | 特許庁 |
| 48 | '16/09/13 | 商標 | ＩＵＰＩＬＯＮ (１７) | 特許庁 |
| 49 | '16/09/13 | 商標 | ＩＵＰＩＬＯＮ (１) | 特許庁 |
| 50 | '16/09/13 | 商標 | ユーピロン (１７) | 特許庁 |
| 51 | '16/09/13 | 商標 | ユーピロン (１) | 特許庁 |
| 52 | '16/09/13 | 商標 | ＩＵＰＩＴＡＬ (１７) | 特許庁 |
| 53 | '16/09/13 | 商標 | ＩＵＰＩＴＡＬ (１) | 特許庁 |
| 54 | '16/09/13 | 商標 | ユピタール (１７) | 特許庁 |
| 55 | '16/09/13 | 商標 | ユピタール (１) | 特許庁 |
| 56 | '16/09/13 | 商標 | ＩＵＰＩＡＣＥ (１７) | 特許庁 |
| 57 | '16/09/13 | 商標 | ＩＵＰＩＡＣＥ (１) | 特許庁 |
| 58 | '16/09/13 | 商標 | ユピエース (１７) | 特許庁 |
| 59 | '16/09/13 | 商標 | ユピエース (１) | 特許庁 |
| 60 | '16/10/24 | 商標 | ＭｏｉｓｔｕｒｅＶａｎｉｓｈ (２１) | 特許庁 |
| 61 | '16/10/24 | 商標 | ＭｏｉｓｔｕｒｅＶａｎｉｓｈ (１７) | 特許庁 |