法人番号: 9130001030256
所在地: 京都府向日市寺戸町久々相1番地
更新: '17/04/06
# | 変更年月日 | 変更内容 |
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1 | '15/10/05 | 新規登録 |
2 | '15/10/05 | 新規登録 |
3 | '15/10/05 | 新規登録 |
4 | '15/10/05 | 新規登録 |
5 | '17/04/06 | 【吸収合併を実施】京都市南区久世殿城町190番地1INDEXテクノロジーズ株式会社(2130001027358)を合併 |
6 | '17/04/06 | 【吸収合併を実施】京都市南区久世殿城町190番地1INDEXテクノロジーズ株式会社(2130001027358)を合併 |
7 | '17/04/06 | 【吸収合併を実施】京都市南区久世殿城町190番地1INDEXテクノロジーズ株式会社(2130001027358)を合併 |
8 | '17/04/06 | 【吸収合併を実施】京都市南区久世殿城町190番地1INDEXテクノロジーズ株式会社(2130001027358)を合併 |
# | 年月日 | 合併内容 |
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1 | '17/04/06 | INDEXテクノロジーズ株式会社を合併 |
項目 | 内容 |
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商号 / 名称 | 株式会社大日本科研 |
法人番号 | 9130001030256 |
郵便番号 | 〒6170002 |
所在地 | 京都府向日市寺戸町久々相1番地 |
最終変更日 | 2017-04-06 |
法人番号指定日 | 2015-10-05 |
# | 年月日 | 表彰名 | 部門等 | 省庁名 |
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1 | ー | 両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表 | 厚生労働省 |
# | 認定日/出願日 | 届出認定等 | 対象 | 省庁名 |
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1 | '16/01/06 | 特許 | フォトレジストでパターンを形成した曲面体の製造方法及び露光装置 (G03F 7/24) | 特許庁 |